物体的发射率
影响物体发射率的因素很多，也相当复杂，不仅与温度、波长有关，而且与物体的材料入表面状态有关。在波长与温度相同条件下，即使用同一种材质制成的具有不同表面状态的物体，它们的光谱发射率也可能相差甚远。
1.光谱发射率与波长变化的关系：金属的光谱发射率随着波长增加而减小，非金属的光谱的光谱发射率随着波长的增大而增大。
2.发射率与温度的关系：金属的发射率随温度的升高而增加，非金属发射率随温度的升高而减小。
3.发射击率与发射角度的关系：金属的定向发射率在偏离法线40度以内基本不变，等于法向发射击率；40-80度之间定向发射率随偏离角度增大量在接近90度时，发射率急剧减小。
4.金属氧化物具的发射率特性：金属氧化物具有非金属发射率的特性，其发射率比原金属高得多。当金属表面形成氧化膜时，发射率迅速增加；且随着氧化膜层厚度增加，发射率增大，达到一定厚（10um）后则相当稳定,且表现为非金属的发射特性。
5.發射率與表面粗糙度的關係：光線投射到表面會產生多次反射，因此，粗糙表面的吸收率比光潔表面的吸收率大。根據基爾霍夫定律粗糙表面的發射率大於光潔表面的發射率，金屬的發射率高，由於多次反射造成發射率增加較明顯」例如，鋁的光滑表而匚粗糙表面的发射率可相差3~4倍。但对于绝缘体，由于反射率低，粗糙度对发射率影响较小。